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Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Único cristal de Gd3Al2Ga3O12 GAGG

Certificado
China ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. Certificações
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Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Único cristal de Gd3Al2Ga3O12 GAGG

Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Único cristal de Gd3Al2Ga3O12 GAGG
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Imagem Grande :  Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Único cristal de Gd3Al2Ga3O12 GAGG

Detalhes do produto:
Lugar de origem: CHINA
Marca: Crystro
Certificação: SGS
Número do modelo: CRGAGG-10
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1 PARTE
Preço: Negotiable
Detalhes da embalagem: Caixa da caixa
Tempo de entrega: 4 semanas
Termos de pagamento: T/T, Western Union, MoneyGram, Paypal
Habilidade da fonte: 100 PCes pela semana
Descrição de produto detalhada
Fórmula química: Ce: Gd3Al2Ga3O12 método do crescimento: Czochralski
Densidade: 6.63g/cm3 Ponto de derretimento: 1850℃
Rendimento claro: >50000 (fotão/MeV) Pico da emissão: 520 nanômetro
Definição de energia: <6> Hygroscopic: NÃO
Realçar:

único cristal de 520nm GAGG

,

Ce: Gd3Al2Ga3O12

,

Único cristal da cintilação GAGG


 

Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Gd3Al2Ga3O12 único cristal do Ce GAGG

 

Introdução:

Ce: O cristal de GAGG tem as características do alto densidade, do transmitância alto, do grande número atômico eficaz, do rendimento claro alto, do tempo de deterioração rápido, da boa definição de energia, e de propriedades físicas e químicas estáveis. Comparado com os materiais de cristal da cintilação tradicional, o desempenho detalhado é mais excelente, e o preço e as vantagens ambientais são extremamente altos. Tem uma vasta gama de aplicações nos campos do equipamento médico do CT e do PET/CT, da inspeção da segurança, da física do de alta energia, da física nuclear, etc.

 

Propriedades materiais:

Propriedade Valor
Fórmula química Ce: Al2 GA3 O12 de Gd3
Número atômico (eficaz) 54,4
Método do crescimento Czochralski
Densidade 6.63g/cm3
Dureza de Mohs 8
Ponto de derretimento 1850℃
Coeficientes da expansão térmica. TBA x ⁶ de 10 ‾

 

 

 

 

Características:

  • A rendimento elevado: >50000 (fotão/MeV)
  • Alto densidade: Bons absorventes com bons poderes de parada
  • Definição de alta energia
  • Pico ao redor 520 nanômetro da emissão

 

Aplicação principal:

  • Imagem latente médica - ANIMAL DE ESTIMAÇÃO, PEM, SPECT, e CT
  • Aplicações do especialista no de alta energia, nuclear, no espaço, e na física médica
  • Microscopia de elétron de varredura (SEM)

 

Detalhes do produto:

Ce a rendimento elevado do material da cintilação: Único cristal de Gd3Al2Ga3O12 GAGG 0

 

Contacto
ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.

Pessoa de Contato: Zheng

Telefone: +86 18255496761

Fax: 86-551-63840588

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